Deposição uniforme de cobre, confiabilidade através da capacidade de enchimento, eliminação da rugosidade da superfície e consumo mínimo de aditivos fazem dos ânodos DE NORA DT® a solução para o desafio atual na indústria eletrônica.
Os ânodos DE NORA DT® são oferecidos em projetos padrão e personalizados para garantir um ótimo desempenho:
- Distribuição uniforme do chapeamento e excelente poder de atração
- Consumo de aditivos extremamente baixo sem membrana
- Vida útil do banho de galvanização aprimorada com desempenho estável
- Menos manutenção do banho reduzindo o toc
- Longa vida útil e eliminação da manutenção do ânodo
- Maior produtividade do equipamento pela operação de alta densidade de corrente
